28/10/2010

5º Colóquio de Micro e Nanoeletrônica



TRANSMISSÃO PELA INTERNET

1) No dia do evento a transmissão estará disponível pelo endereço: mms://200.144.112.26/namitec (entre no windows media player, clique em arquivo - abrir URL e digitar o endereço citado).

2) Durante o evento, questões ao palestrante e feedback sobre qualidade da apresentação poderão ser enviados por email para adriana.nishimura@cti.gov.br.

3) A apresentação de slides será disponibilizada no site http://namitec.cti.gov.br, menu Colóquios.


RESUMO

"More Moore and More Than Moore"

A Lei de Moore tem descrito a evolução da indústria de semicondutores desde a sua publicação na década de 60. Na realidade, a indústria tem se utilizado deste simples modelo de mercado como guia de uma das maiores evoluções tecnológicas da história da humanidade. Iremos apresentar como a Lei de Moore tem fomentado a inovação na indústria de semicondutores, alguns dos limites tecnológicos que tem aparecido e sido superados e as perspectivas para o futuro próximo. Recentemente, uma vertente evolutiva denominada “MoreThan Moore” tem tomado corpo e explora as possibilidades de evolução tecnológica através da fusão funções em um nível de encapsulamento de sistemas. Discutiremos estes novos caminhos que estão sendo explorados como alternativas à Lei de Moore. 


SOBRE O PALESTRANTE

Antonio Luis Pacheco Rotondaro (ECS M’93; IEEE M’01 SM'07) nasceu em São Paulo, Brasil em 1965. Se formou em engenharia elétrica e obteve o grau de mestre na Escola Politécnica da Universidade de São Paulo em 1987 e 1990, respectivamente. Recebeu os graus de mestre (MS) e doutor (Ph.D.) da Katholieke Universiteit Leuven - IMEC na Bélgica, respectivamente em 1992 e 1996. De 1988 a 1991, atuou como professor substituto no Departamento de Engenharia Elétrica da Escola Politécnica da Universidade de São Paulo enquanto pesquisava a deposição de titE2nio e cobalto por espirramento catódico para a formação de silicetos. De 1991 a 1992, trabalhou na caracterização e modelamento de dispositivos de silício-sobre-isolante (SOI) operando a baixas temperaturas (4K), no Interuniversitair Microelektronica Centrum (IMEC), na Bélgica. De 1992 a 1996, trabalhou no IMEC, no controle de contaminação durante a fabricação de dispositivos CMOS submicrometricos. De 1996 a 2007, atuou na Texas Instruments Incorporated em Dallas, TX, EUA, na pesquisa e desenvolvimento de processos avançados de fabricação de semicondutores e na integração de processos em tecnologias de 0.25mm, 130nm, 90nm e 65nm. Foi professor adjunto no Departamento de Engenharia Elétrica da Southern Methodist University (SMU) em Dallas, TX, EUA, de 2003 a 2007, ensinando projeto de circuitos analógicos para a pós-graduação. De 2007 a 2009, trabalhou na IBM em Hopewell Junction, NY, EUA, na pesquisa e desenvolvimento da tecnologia de 32nm em silício-sobre-isolante (SOI) para a fabricação de microprocessadores. Desde Julho de 2009, ele está trabalhando no CTI Renato Archer em Campinas, SP, Brasil, tendo sido nomeado Coordenador Geral de Tecnologias da Informação em Janeiro de 2010. Os seus tópicos de interesse são: conectores e cápsulas de alto desempenho, “stress” aplicado ao silício, dielétricos de porta de alta constante dielétrica, portas metálicas e tecnologias CMOS de alto desempenho. Ele possui mais de 70 patentes, um capítulo em um livro e mais de 90 artigos técnicos publicados nos campos relacionados acima.

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